减反膜介绍磁控溅射的直流溅射法知识？
发布时间：
2022-08-08 17:47
磁控溅射的直流溅射法知识你知道是什么吗？跟着减反膜小编一起来简单的了解看看吧！
直流溅射法要求靶材料能够将离子轰击过程中获得的正电荷转移到与其紧密接触的阴极上，因此该方法只能溅射导电材料，不适用于绝缘材料。因为当轰击绝缘靶时，表面上的离子电荷不能被中和，这将导致靶表面的电势上升，并且几乎所有施加的电压都施加到靶上。两极之间离子加速和电离的机会将减少，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法（RF）。
溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程：入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子；某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒（对于金属是5-10 eV），从而从晶格点阵中被碰撞出来，产生离位原子；这些离位原子进一步和附近的原子依次反复碰撞，产生碰撞级联；当这种碰撞级联到达靶材表面时，如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能（对于金属是1-6eV），这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。
综上所述就是减反膜小编讲述磁控溅射的直流溅射法知识，您可以多了解一些。
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