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真空镀膜的工作流程及原理

发布时间：

2022-08-08 17:30

真空镀膜机主要是指一种需要在高真空下进行的镀膜，包括多种，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。主要思路分为蒸发和溅射。

一、真空镀膜电控柜操作

1、开启水泵、气源

2.打开主电源

3.打开维护泵和真空计的电源，并将真空计保持在V1位置。等到它的值小于10，然后继续下一个操作。大约需要5分钟。

4.启动机械泵，预泵，启动涡轮分子泵，并将真空计切换到V2。大约需要20分钟，直到泵小于2。

5.观察涡轮分子泵读数达到250后，关泵，打开前置发动机和高阀继续抽真空，然后打开右边的高真空计观察抽真空到一定程度后的真空度。直到真空度达到2×10-3才能接通电子枪电源。

二.真空镀膜DEF-6B电子枪电源柜的操作

1、总电源

2.同时打开电子枪控制一和电子枪控制二的电源:按下电子枪控制一的电源和延时开关，延时、电源和保护灯将打开。三分钟后，延迟和保护灯将关闭。如果后门没有正确关闭或水流继电器有故障，保护灯将一直打开。

3.高压开启时，高压将达到10KV以上，束流可调节到200毫安左右，幕栅为20V/100毫安，灯丝电流为1.2A，偏转电流在1-1.7之间摆动。

第三，真空镀膜关机顺序

1.关闭真空计和分子泵。

2.当分子泵达到50时，依次关闭阀门、前级和机械泵，大约需要40分钟。

3.当低于50时，关闭维护泵。

真空镀膜机的工作原理如下:

在镀膜领域，真空镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的重要因素。因此，在评估薄膜样品的性能时，有必要测试不同厚度下薄膜样品的性能。在真空镀膜的情况下，往往需要多次准备样品。但是这么多次制备样品有两个问题:第一，对于不同时间生长的样品，仪器的状态是不同的，所以影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度；其次，在真空镀膜实验中加载样品时，再次获得真空是非常耗时的。和检测成本增加。

因此，真空镀膜提供了一种多功能磁控溅射镀膜系统，该系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成，可以在高真空蒸发室中完成薄膜蒸发，并在手套箱的高纯度惰性气体气氛中储存和制备样品以及对蒸发后的样品进行检测。蒸发涂层与手套箱相结合，使薄膜生长和器件制备的整个过程高度集成为一个环境气氛可控的完整系统，消除了有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素的影响，保证了高性能大面积有机光电器件和电路的制备。

真空镀膜该多功能磁控溅射镀膜系统主要用于制备各种金属薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、磁控薄膜、光学薄膜、超导薄膜、传感薄膜以及有特殊要求的功能薄膜。

真空镀膜

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